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       在做低含量元素或者痕量元素的光谱定量分析时，由于谱线很弱，光强值很低,若背景的强度叠加在上面，不予扣除，必然导致分析结果不准。

       光谱分析背景的来源很多，大致有以下几方面:

(1)有些金属元素如锌、铅、镁、铝的谱线都有很强的扩散线形成背景。

(2)在光源作用下，样品与周围的空气产生氧化物及氮化物辐射带状的分子光谱,也形成背景。例如氰的带状光谱。

(3)由炽热的电极头或弧焰中的固体质点所发射的连续光谱,也形成背景。

(4)在电流密度很大时，有的元素(例如铝)的光谱中出现连续背景，在紫外域强度很大。

(5)离子复合过程而产生的辐射也形成背景。在使用火花光源时，这种背景较强。既然有许多原因都能使光谱中形成背景，首先应考虑避免背景产生。为避免分子光谱的背景，可以使用惰性气氛控制激发。当出射狭缝增宽时,背景增大,所以为了减少背景，应当选用合适宽度的狭缝。采取这些措施，但背景的影响不可能完全清除。

直读光谱仪分析元素

       如【测量的谱线】落在背景中，则【元素的谱线强】度是由【谱线强度】及【背景强度】叠加的结果。若考虑【光强比值】原来的相对强度是【光谱强度】除以【I_O】，显示相对强度有所改变。即使分析线及内标线的背景相同，则仍然有不同的光谱强度，所以必须扣除背景。

       由此可以看出，内标线上有背景则使工作曲线产生一定的平行移动，因此在固定的条件下可以不扣除背景。最重要的是出射狭缝固定不变，因此背景强度是随狭缝宽度而改变的。扣除谱线上的背景有个原则，就是只能按强度相减。

       在火花直读光谱分析中，使用专门的背景通道测量背景。在硬件排列顺序中,输人“BKC" 作为通道的名称，“BKG" 的波长为175.7nm使用R166或R427以及R1657PMT。没有背景通道，则不能使用背景校准。

       在持久校正曲线中，背景在校正曲线中用D来表示。D值与背景有关。在直流电弧中分析很低的浓度时，选用专门的背景通道作为动态背景校正。因为在分析间隙中,电弧的移动将引起背景的波动。在此情况下，背景使元素的强度加大,有时背景和分析信号几乎相等，测量可用下式表示:测量强度=强度(元素) +强度(背景)。

       如果元素强度等于背景强度，则需要背景校正。在某些情况下，甚至在很低的浓度时，元素强度大大超过背景强度，或者在火花发射光谱分析中,背景可看做常数，因此，可不必利用背景通道。如果背景达到一定的级别，对于这么大的背景，浓度的读数必须进行校正，校正背景公式如下：浓度(校正) =浓度(读数) -[强度比(背景) - BKG基准强度]，对低含量的通道来讲，背景强度比值没有达到基准强度级别，则不必进行校准。如果背景达到一定的强度，含量必须用不同倍数的系数调整。

       (1)背景校正系数f的计算。选用一个低含量的样品(这个含量条件下背景的影响较大)，进行6次曝光，并测定其强度比。为了提高分析结果的准确度，原则上应该扣除背景。但是往往在扣除背景的测量和计算过程中引进已附加的分析误差。因此，应尽可能不扣除背景，只有在由于背景严重影响分析准确度时，才予以扣除。